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X射线光电子能谱仪

  • 简单描述:VersaProbe 4X射线光电子能谱仪配置了全新设计的能量分析器,能够实现从微区到大面积的高灵敏度分析。同时还具备高精度的角度接受器、荷电中和技术以及多样化的选配方案等特性,能够提供极限深度分辨率。所有的这些特性都与新的自动化技术相结合,使得VersaProbe 4能够集高灵敏度、高可靠性和高可扩展性等优势于一体。
  • 更新时间:2022-08-10
  • 产品型号:VersaProbe 4
详细介绍

VersaProbe 4X射线光电子能谱仪优势特点:

上市时间:2021年7月
1、谱学性能提升 

- 使用微聚焦扫描 X 射线源进行小面积和大面积分析时具有更高灵敏度 

2、新功能!大面积成像分析

- 扫描X射线影像(SXI)功能增加样品台驱动功能,用于大面积分析导航

- 增加大面积化学态影像及叠加分析功能 

3、高性能深度剖析

-适用于各种有机、无机和混合材料的多种离子枪配置

-先进的薄膜结构分析软件 

4、可靠的自动化和远程操作

-高度可配置的序列系统,让分析过程自动化和效率更高

-可完全远程操作和远程诊断 

5、更环保、现代化的配置

- 高效节能、快速真空获取和符合人体工程学的设计。

VersaProbe 4X射线光电子能谱仪关键技术

  • 从小面积到大面积的高灵敏度分析。

  • excellent的深度剖析表现。

  • 自动电荷双束中和技术。

  • 自动化和远程控制,提供灵活的工作环境。

  • 多样化的配置。

1、微聚焦的扫描X射线源

全新设计的高灵敏度和低噪音能量分析器

作为一种重要的表面分析方法,广泛应用于固体材料表面的元素组分和化学态的研究,例如电池材料、催化剂、集成电路、半导体、金属、聚合物、陶瓷和玻璃等,可满足从研发到失效分析的广泛分析需求。

采用了全新设计的高灵敏度分析器,灵敏度是上一代的2倍,具有更低的检测限,能够实现从微区(<10>1 mm)的高灵敏度化学态分析。

微聚焦扫描X射线和 SXI影像,通过类似SEM的SXI影像可以作为样品导航,实现精准地定义微区分析位置。

SXI: 扫描X射线激发的二次电子影像

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2、excellent的深度剖析表现

使用微区XPS分析技术进行准确的深度剖析

VersaProbe 4的高灵敏度微区分析和高度可重现的中和性能确保了深度分析的excellent性能。样品倾斜和样品旋转相结合,可同时实现高深度分辨率和高能量精度。

3、自动电荷双束中和技术

无需参数调整即可满足任何绝缘样品微区分析的荷电中和需求

VersaProbe 4配备了自动中和技术,无需分别对每个待测样品进行中和参数调整。自动中和采用低能量电子束和低能量离子束的双束同时中和的技术,实现了简单可靠的高效中和。

该技术适用于中和各种材料,配合操作软件所提供的图像配准功能,可为微区分析带来excellent的自动化操作体验。对于无机/有机混合材料以及从微区到大面积的所有分析尺寸,均可以进行可靠且自动化的检测分析。


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